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薄膜物理与技术
本课程共16集 翻译完 欢迎学习

课程介绍:薄膜材料凭借其微小的体积和优异的性能,在建筑、水利、环境、机械、航空航天、信息、能源、生物医学、电子等国民经济主要行业和领域中发挥着越来越重要的作用。本课程面向所有理工科高年级本科生以及研究生,课程内容包括真空技术简介、物理气相沉积、化学气相沉积、化学溶液法镀膜、薄膜的生长以及薄膜结构、薄膜性能测试技术和表征方法。课程的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况,理解真空技术的相关知识,掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法,能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响,并初步掌握薄膜结构表征的方法。为进一步开展薄膜材料的制备和应用研究奠定基础。

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课程列表
【第1集】模块一 第一节 薄膜的定义
【第2集】模块一 第二节 薄膜的制备方法及应用(上)
【第3集】模块一 第二节 薄膜的制备方法及应用(下)
【第4集】模块二 第四节 真空的测量(上)
【第5集】模块二 第四节 真空的测量(下)
【第6集】模块三 第一节 蒸发的基本概念(上)
【第7集】模块三 第一节 蒸发的基本概念(下)
【第8集】模块三 第二节 蒸发的膜厚分布(上)
【第9集】模块三 第二节 蒸发的膜厚分布(下)
【第10集】模块三 第三节 蒸发方法简介(上)
【第11集】模块三 第三节 蒸发方法简介(下)
【第12集】模块四 第一节 溅射与等离子体(上)
【第13集】模块四 第一节 溅射与等离子体(下)
【第14集】模块四 第二节 溅射特性(上)
【第15集】模块四 第二节 溅射特性(下)
【第16集】模块四 第三节 溅射过程(上)
【第17集】模块四 第三节 溅射过程(下)
【第18集】模块四 第四节 射频溅射与磁控溅射(上)
【第19集】模块四 第四节 射频溅射与磁控溅射(下)
【第20集】模块五 第一节 CVD的化学反应类型
【第21集】模块五 第二节 CVD的反应法则(上)
【第22集】模块五 第二节 CVD的反应法则(下)
【第23集】模块五 第三节 CVD装置及类型(上)
【第24集】模块五 第三节 CVD装置及类型(下)
【第25集】模块六 第一节 溶胶凝胶法和LB膜(上)
【第26集】模块六 第一节 溶胶凝胶法和LB膜(下)
【第27集】模块六 第二节 阳极氧化、电镀、化学镀
【第28集】模块七 第一节 薄膜的生长过程
【第29集】模块七 第二节 薄膜成核理论(上)
【第30集】模块七 第二节 薄膜成核理论(下)
【第31集】模块七 第三节 连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷
【第32集】模块八 第一节 薄膜厚度测试
【第33集】模块八 第二节 薄膜形貌及结构表征
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